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供应科研实验室用高纯铝颗粒,Al靶材,铝丝

供应科研实验室用高纯铝颗粒,Al靶材,铝丝

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|  产品介绍

供应科研实验室用高纯铝颗粒,Al靶材,铝丝


化学符号:Al
外 观:银白色
原 子 量:26.98154
蒸发温度:1220℃
密 度:2.7g/cm3
熔 点:660℃
沸 点:2467℃
汽化温度:1082℃
电 阻 率/μΩ•cm:2.66
电阻温度系数/℃-1:4.20×10-3
溶 解 于:氢氧化钠,碱类,稀硝酸
蒸发方式:钨丝或钼舟
蒸发源材料(丝、片):W
坩 埚:BN、TiC/C、TiB2-BN
性 能:铝膜从紫外区到红外区具有平坦而且很高的反射率,铝膜对基地的附着力比较强,由于铝膜表面总是存在着一层透明的Al2O3薄膜的保护,所以铝膜的机械强度和化学稳定性都比较好。通常真 空蒸发制备的铝膜呈银灰色,但有时也呈黑色。蒸发源为电子枪,基地为氧化硅薄膜(100nm厚),蒸镀铝料的纯度为99.999%。合金及相湿、钨多股绞合较好;加工性能好,可加工成任意形状;
波长/nm 折射率n 消光系数k 反射率/%
220 0.14 2.35 91.8
250 0.19 2.85 92.0
300 0.25 3.33 92.1
340 0.31 3.8 92.3
380 0.37 4.25 92.6
436 0.47 4.84 92.7
492 0.64 5.50 92.2
546 0.82 5.44 90.0
650 1.30 7.11 90.7
700 1.55 7.00 88.8
800 1.99 7.05 86.4
950 1.75 8.50 91.2
2000 2.30 16.5 96.8
4000 5.97 30.3 97.5
6000 11.0 42.2 97.7
8000 17.0 55.0 98.0
10000 25.4 67.3 98.1
应 用:保护膜,反射膜,增透膜
用 途:超纯铝用于制造光电子存储媒体;作为集成电路的配线;
Al分析报告:
Si Fe Cu Pb Zn Ga Ti Cd Ag In
0.0001 0.0001 0.00014 0.00001 0.00005 0.00001 0.00005 0.00001 0.00001 0.00001

99.996%高纯铝的性能
1.干涉性中子散射断面积/㎡ 参数:1.495×10-28
2.非干涉性中子散射断面积/㎡ 参数:0.0092×10-28
3.中子吸收断面积/㎡ 参数:0.231×10-28
4.晶格常数(298K)/nm 参数: 0.40496
5.密度/g•cm-3 固态(298K):2.699
液态(973K):2.357
液态(1173K):2.304
6.线膨胀系数(293K)/K-1 参数:23×10-6
7.热导率(298K)/W•(m•K)-1 参数:237
8.体积电导率(293K,IACS)/% 参数:64.94%
9.磁化率(298K)/mm3•mol-1 参数:16×10-3
10.表面张力(熔点)/N•m-1 参数:0.868
11.黏度(熔点)/Pa•s 参数:0.0012
12.熔点/K 参数:933.5K
13.熔解热/kJ•mol-1 参数:10.7
14.汽化热/kJ•mol-1 参数:291
15.反射率(电解抛光,对可见光)/% 参数:85~90
16.热辐射率/% 参数:3
17.超导温度/K 参数:1.175
18.切变模量/N•m-2 参数:2.667×1010
19.正弹性模量/ N•m-2 参数:7.051×1010
20.体积弹性模量/ N•m-2 参数:7.55×1010

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一、光学镀膜材料(纯度:99.9%-99.9999%)

  1. 氧化物:

一氧化硅,二氧化铪,二氧化锆,二氧化钛,一氧化钛,二氧化硅,三氧化二钛,五氧化三钛,五氧化二钽,五氧化二铌,三氧化二铝,三氧化二钪,三氧化二铟,二氧化硅,二钛酸镨,二氧化铈,氧化镁,三氧化钨,氧化钐,氧化钕,氧化铋,氧化镨,氧化锑,氧化钒,氧化镍,氧化锌,氧化铁,氧化铬,氧化铜。

  1. 氟化物:

氟化镁,氟化镱,氟化钇,氟化镝,氟化钕,氟化铒,氟化镝,氟化钾,氟化锶,氟化钐,氟化钕,氟化钠,氟化钡,氟化铈,。

  1. 金属类:

高纯铝丝(5N),铬粒,铬条,金丝(片),银丝(柱、球,片),铂丝,铪丝、锆丝,碲(6N),锗(6N),钛粉(粒、柱、片、丝),镍粉(丝),镍铬(8020)合金。 灰热反射膜合金,金红膜合金。

  1. 混合料

氧化锆氧化钛混合料,氧化锆氧化钽混合料,氧化钛氧化钽混合料,氧化锆氧化钇混合料,氧化钛氧化铌混合料,氧化锆氧化铝混合料,氧化镁氧化铝混合料

  1. 其他化合物:

钛酸钡,钛酸镨,钛酸锶,钛酸镧,硫化锌,冰晶石,硒化锌,硫化镉。

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